膜厚測定装置

Foothill膜厚測定装置 

米国Foothill社製膜厚測定装置です。シリコンウェーハ上のシリコン酸化膜やレジスト等の透過膜の厚みを非接触にて、簡単にかつ高精度に測定が行えます。

高機能300mm光干渉式膜厚測定

KV-300

300mmウェーハ自動膜厚測定装置

多種類基板、不定形基板から最大φ300mm基板まで対応した、自動ステージ及びマッピング機能搭載デモルです。測定膜厚の測定範囲は4タイプあり、最大500μmまで非接触で測定が可能です。また、基板吸着機能と膜厚測定ポイント・モニタ機能により、基板の反りを抑え、正確な測定位置が確認できます。

仕様

・ウェーハサイズ 3インチ 〜 300mm(標準仕様)
・膜厚測定範囲  40nm 〜 500μm
・対応基板    Si、化合物半導体基板等
・対応膜種    SiO2、Si3N4、Poly-Si、Resist、Polyimide等

200mm光干渉式膜厚測定

KF-10

概要

最大φ200mm基板に対応した、自動ステージ及びマッピングソフト搭載した膜厚測定装置です。
各種透過膜に応じた測定プログラムが用意されています。また、光学定数等を入力し独自の測定プログラムを作成できます。

仕様

・ウェーハサイズ 3 インチ 〜 200 mm
・膜厚測定範囲  80nm 〜 160μm
・対応基板    Si、化合物半導体基板等
・対応膜種    SiO2、Si3N4、Poly-Si、Resist、Polyimide等

簡易型光干渉式膜厚モニタ

L-2

概要

膜厚測定以外の機能を全て省いたシンプルなモデルです。
可動ステージも無く、1ポイント測定等の簡易的な用途に適しています。

仕様

・ウェーハサイズ 標準:最大8インチ、オプション:φ300mm
・膜厚測定範囲  0.2 〜 160μm
・測定スポット  φ50μm
・対応膜種    SiO2、Si3N4、Poly-Si、Resist、Polyimide等
L-2