レジスト評価システム

レジスト現像アナライザ RDAシリーズ

レジスト現像アナライザは、最新鋭の18チャンネル現像速度解析評価装置です。
このシステムを用いることにより、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行なえます。
また、リソグラフィ・シミュレータに必要なレジスト・モデリング・パラメータを正確に決定することができます。

レジン溶解速度測定 ディップタイプ

RDA-760

概要

樹脂の溶解速度の測定が可能です。
樹脂の品質管理に最適な装置です。

特長

モニター数:     1 チャンネル、または、3 チャンネル
モニター波長:    950 nm
適用レジスト膜厚:  500 nm 〜 10 μm
その他:       現像液温調機能、ウェハ自動インサート、
           現像液自動供給・排水機能搭載

 

オプション:     有機溶剤対応

RDA-760
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 RDA-760カタログ


レジン溶解速度測定 スピンタイプ

RDA-760Spin

概要

樹脂の溶解速度の測定がスピン方式の現像で可能です。
樹脂の品質管理に最適な装置です。

特長

モニター数:     1 チャンネル
モニター波長:    950 nm
適用レジスト膜厚:  500 nm 〜 10 μm
その他:       現像液温調機能、スピン現像・パドル現像に対応、
           現像液自動ディスペンス機能・自動リンス搭載


レジスト現像速度測定 標準仕様

RDA-790

概要

フォトレジストの現像速度評価が可能です。
γ値、コントラストカーブ、表面難溶化パラメータ、現像パラメータの算出が可能です。

特長

モニター数:    18 チャンネル
モニター波長:   950 nm
適用レジスト膜厚: 500 nm 〜 10 μm
その他:      現像液温調機能、ウェハ自動インサート、
          現像液自動供給・排水機能搭載

オプション:    モニター波長 470 nm
          (適用レジスト膜厚100 nm 〜 1 μm)

レジンアナライザー RDA-790
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レジスト現像速度測定 高Rmax対応

RDA-800

概要

フォトレジストの現像速度評価が可能です。
γ値、コントラストカーブ、表面難溶化パラメータ、現像パラメータの算出が可能です。
ウェハとレンズの現像液同期挿入機構により、ArFレジストの様な高Rmax( 5,000 nm/s )レジストにも対応可能です。

特長

モニター数:    18 チャンネル
モニター波長:   470 nm および 950 nm(デュアル対応)
適用レジスト膜厚: 80 nm 〜 10 μm
その他:      現像液温調機能、レンズ・ウェハ同期型自動インサート、
          現像液自動供給・排水機能搭載

オプション:    有機溶剤対応

RDA-800
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 RDAシリーズカタログ


レジスト現像速度測定 有機/アルカリ現像対応モデル

RDA-800Twin

概要

フォトレジストの現像速度評価が可能です。
γ値、コントラストカーブ、表面難溶化パラメータ、現像パラメータの算出が可能です。
ウェハとレンズの現像液同期挿入機構により、ArFレジストの様な高Rmaxレジストにも対応可能です。
また、現像槽を2基搭載しており、アルカリと有機溶剤にそれぞれ対応できます。

特長

モニター数:    18 チャンネル
モニター波長:   470 nm および 950 nm(デュアル対応)
適用レジスト膜厚: 80 nm 〜 10 μm
その他:      現像液温調機能、レンズ・ウェハ同期型自動インサート、
          現像液自動供給・排水機能搭載

オプション:    モニター波長 265 nm
          (適用レジスト膜厚 40 nm 〜 200 nm)


QCM対応レジスト現像速度測定

RDA-Qz3

概要

QCM(クォーツ・マイクロバランス)法を用い、現像するレジスト膜の質量変化を測定する現像アナライザー。
現像中のレジスト膜の膨潤挙動(膨潤膜厚・膨潤粘度)の解析も可能です。

特長

モニター数:    1 チャンネル
QCM基板:      5 MHz
適用レジスト膜厚: 10 nm 〜 3 μm
その他:      現像液温調機能、現像液自動供給・排水機能搭載
          アルカリ・有機溶剤共に対応可

RDA-Qz3
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