コータ・デベロッパ

マニュアルレジスト塗布/現像装置 Litho Spin Cupシリーズ

リソスピンカップは、マニュアル装置でありながら自動の塗布処理装置や現像処理装置並みの高いパフォーマンスを発揮します。
オートディスペンサ、裏面洗浄等の各種リンス、自動センタリング機構等を標準搭載していますが、さらに必要な機能の追加や不要な機能を除いたりご要望に合わせた独自の仕様でご提供しています。また、基板サイズは、不定形の小型基板から最大φ450mmウェーハまでマルチに対応させることが可能なモデルを用意しています。

高機能マニュアル塗布装置

Litho Spin Cup 800C

概要

化学増幅型レジストから厚膜レジストまで各半導体デバイス製造工程毎に柔軟にカスタマイズできる多機能、高精度なマニュアルスピン塗布装置です。
少量多品種生産に加え、研究機関のデバイス開発用、半導体製造装置メーカーのプロセス評価用、薬液メーカーや基板メーカーの材料評価用、デバイスメーカーの条件出しや材料選定用として多く採用いただいています。

特長

自動装置と同様に吐出ラインの系統数が指定することができ、EBR(エッジビードリムーバ)、BSR(バックサイドリンス)や排気オートダンパがついています。さらにレジスト温調、ファンフィルタユニット、ケミカルフィルタ、塗布チャンバ内の雰囲気温調・湿度制御等用途に応じた各種オプションを用意しています。基板サイズは、不定形の小型基板から最大φ450mmウェーハまでマルチに対応させることが可能です。

規格

低粘度/高粘度レジスト塗布対応自動ディスペンサ
エッジリンス、バックサイドリンス、廃液回収機構、カップ排気標準装備
ポリイミド、絶縁膜、ワックス等の塗布に対応可
温湿度コントロール、薬液温調機能 [オプション]

高機能マニュアル現像装置

Litho Spin Cup 800D

概要

マニュアルのスピン現像装置です。各種現像方式に対応します。有機現像仕様等の各種モデルをとり揃えています。

特長

ストリームノズル、スリットノズル、スプレーノズル等やプログラマブルスイングアームにより、目的に応じた現像/リンス処理が行えます。


300mmマニュアル塗布装置

Litho Spin Cup 1200C

概要

300mmウェーハまで対応した塗布装置です。450mm対応モデルLitho Spin Cup 450Cもライナップしています。

特長

用途区分: マニュアル/セミオート 塗布

機能: 300mmセミオートスピンコータ


300mmマニュアル現像装置

Litho Spin Cup 1200D

概要

各種プロセスに応じた現像方式に適応できる300mmウェーハ現像装置です。

特長

300mmウェーハにおけるレジストパターンの線幅制御や面内線幅均一性向上のための条件出しが手軽に行えます。研究開発用途や少量多品種デバイス生産等で使用されています。


マニュアル塗布装置

Litho Spin Cup 200C

概要

低価格、コンパクトなマニュアルレジスト塗布装置です。実験や開発用として手軽にハンドディスペンスが行えます。また、オートディスペンサを搭載することが可能です。

主な仕様

ウェーハサイズ :2インチ〜200mmウェーハ
レジストライン :レジスト自動ディスペンサ1系統 [オプション]
リンスライン  :ウェーハエッジリンス、バックリンス標準
プライマライン :プライマ自動ディスペンサ1系統 [オプション]
塗布方式 :スピン塗布
スピンプログラム :30ステップ/50プログラム
基板セット方法 :基板手置き、ウェーハセンタリングガイド付

マニュアル現像装置

Litho Spin Cup 200D

概要

ウェーハをセットした後に、簡単にかつ安全にパドル現像、リンス処理が自動で行えるマニュアルアルカリ現像装置です。

主な仕様

ウェーハサイズ :2インチ〜200mmウェーハ
現像ライン :アルカリ現像液自動ディスペンサ1系統
リンスライン :純水リンス、バックリンス
現像方式 :パドル現像
スピンプログラム :30ステップ/50プログラム
基板セット方法 :基板手置き、ウェーハセンタリングガイド付

QCM基板対応

Litho Spin Cup Qz1

概要

本装置は、QCM(Quartz Crystal Microbalance)基板専用のマニュアルレジスト塗布装置です。
通常のスピン塗布装置では難しい極小基板(φ14mm及びφ25mm)に対し、自動ディスペンスによるレジスト塗布が行えます。
LSC-Qz1 装置全体図
関連画像


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