レジスト評価システム

レジスト評価ツール 

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。
例えば、レジストの脱保護反応を解析する装置、環境試験装置などをラインアップしています。
さらにお客様のニーズに合わせて、これからも新たな評価装置を提案していきます。

脱保護反応解析装置

PAGA-100

概要

FT-IRスペクトロメータに露光機能、ベーク機能を搭載し、露光中のPAGの分解や、PEB中の保護基の脱離の様子を観察します。
リソグラフィ・シミュレータで必要な脱保護反応パラメータの算出が可能です。 

特長

露光機能:    246, 365, 405, 436 nm、および ブロード光
         (フィルタによる選択)
照度:      1 mW/cm²
露光エリア:   10 mmΦ
ベーク機能:   室温 〜 150 ℃
適用レジスト膜厚:200 nm 〜 80 μm

オプション:   超薄膜対応ユニット
         (レジスト厚さ 50 nm 〜 200 nm)


MEMS用露光機対応プロキシミティ・リソシミュレータ

ProxSim II

概要

光強度計算にKirchhoff回折理論を用いて回折の計算を行ない、実測の現像速度と組み合わせて現像後のレジスト形状を計算する、MEMS用露光機対応プロキシミティ・リソシミュレータです。

特長

入力パラメータ

 

露光波長(ブロードバンド対応)

パターン(L/Sパターン、孤立ラインパターン、孤立スペースパターン)

コリメーション・アングル量

プロキシミティ・ギャップ量

露光量

現像速度データファイル

 

出力

レジスト現像後のパターンプロファイル、仕上がり寸法、パターン側壁角度