陽春の候、皆様におかれましては、ますますご清栄のこととお慶び申し上げます。平素は格別のご高配を賜り厚くお礼申し上げます。
リソテックジャパン株式会社は、本年10月に創立20周年を迎えることになりました。この節目の年を迎えることができましたのも、ひとえに皆様のご支援 ご愛顧の賜物と心より感謝申し上げます。


弊社は、世界で初めてステッパ(縮小投影露光装置)を製造・販売した米国ＧＣＡ社の製品を国内で取り扱っていた住友GCA社(のちにGSJ社)から受け継いだ技術を基盤とし、半導体リソグラフィプロセスに特化した会社として1993年10月7日に設立されました。
以来20年、半導体リソグラフィの発展とともに、私どもは常にお客様が必要とされる技術開発や製品のご提供を続け、おかげをもちまして現在ではレジスト解析装置、コータデベロッパ、リソグラフィツールと、取扱い製品のラインアップを充実・拡大しております。これからも引き続き半導体リソグラフィの進化における弊社としての役割を担っていきたいと考えておりますので、なお一層のご支援 ご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。

平成25年4月

代表取締役 南 洋一