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ニュースリリース

2012年 11月 15日

【SEMICON Japan 2012】のご案内

開催期間:2012年12月5日(水)〜7日(金)

開催時間:10:00〜17:00

展示会場:幕張メッセ国際展示場・国際会議場・イベントホール

ブースNo.:3A-601


お客様各位

拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。

さて、弊社リソテックジャパンは本年も【セミコンジャパン2012】に出展させていただくことになりました。今回弊社では、レジスト塗布装置、レジスト解析評価装置、リソグラフィシミュレータ等の展示に加え、レジスト塗布に関わる弊社の最新技術についてご紹介いたします。
ぜひご来場いただき弊社ブース(3A-601)へお立ち寄りくださいますようご案内申し上げます。
敬具


平成24年11月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一