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ニュースリリース

2012年 06月 22日

【第23回マイクロマシン/MEMS展】のご案内

開催期間:2012年7月11日(水)〜13日(金) 午前10時〜午後5時

展示会場:東京ビックサイト 東2ホール

ブースNo.:東ホール【E-20】

主催:財団法人マイクロマシンセンター



拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。 また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。

さて、弊社リソテックジャパンは本年も「第23回マイクロマシン/MEMS展」に出展させていただくことになりましたのでご連絡申し上げます。 

今回弊社では、MEMS製造時におけるフォトリソグラフィ工程の装置技術や測定技術を中心とした展示を行います。特に、弊社の厚膜レジストやポリイミドに対する塗布仕様を詳細にご紹介いたします。
また、マニュアル装置から自動装置まで、お客様のご要望や用途に合わせたシステムをご提案いたしますので、ぜひとも弊社ブース【東2ホール E-20】へお立ち寄りくださいますようお願い申し上げます。
 

 

敬具

平成24年6月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一