ニュース一覧

ニュースリリース

2013年 06月 27日

ナノ・マイクロビジネス展に出展します

開催期間:    2013年7月3日(水)〜5日(金) 10:00〜17:00

展示会場:    東京ビックサイト(東京国際展示場) 東2ホール

展示ブース:   東2ホール【E-05】

主催:     (一財)マイクロマシンセンター



リソテックジャパンは平成25年7月3日(水)より開催されます「ナノ・マイクロビジネス展」に出展いたします。

マイクロメートルレベルでの加工により実現されたMEMS技術は現在、より微細度の高いナノ技術へ移行を始めたことから、昨年までの「マイクロマシン/MEMS展」から「ナノ・マイクロビジネス展」へ名称が変更されました。

今回弊社展示ブースでは、MEMSや半導体デバイス製造におけるフォトリソグラフィ工程の製造装置や評価装置関連の機器を展示します。また、レジストやポリイミドのコーティング関する技術をご紹介いたします。また、レジストの塗布、露光、現像に関してお客様のご要望や用途に合わせたシステムをご提案いたしますので、ぜひとも弊社ブース(東2ホールE-05)へお立ち寄りくださいますようお願い申し上げます。
 

敬具

平成25年6月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一