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ニュースリリース

2018年 11月 05日

【SEMICON Japan 2018】のご案内

開催期間 : 2017年12月12日(水)〜14日(金)

 


開催時間 : 10:00〜17:00

展示会場 : 東京ビッグサイト(東展示棟、会議棟)

ブースNo. : 4427 (東ホール4)


お客様各位

 

 

拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます。
また、平素は格別のご高配を賜り厚く御礼申し上げます。


さて、弊社リソテックジャパンは本年も「SEMICON Japan 2018」に出展させていただくことになりました。

今回弊社では、レジスト塗布/現像装置、レジスト評価/解析装置に関連する製品を展示し、レジスト塗布、露光、現像等のプロセスに関わるシステムから弊社の最新技術までご紹介いたします。


実機展示は、スピンコータ [Litho Spin Cup], レジスト減圧乾燥ユニット [VCD], ETHスキャナ [LT-Escan-1500],マニュアルベーク装置 [LWB-03H], 非接触式膜厚測定装置 [Foothill L-2]を展示予定です。


ぜひご来場いただき弊社ブース【4427】へお立ち寄りくださいますようご案内申し上げます。

敬具


平成30年11月吉日

リソテックジャパン株式会社
代表取締役 南 洋一