シリコンウェーハや石英基板の表面に、気化させたHMDS(ヘキサメチルジシラザン)を流し高温で反応させるマニュアルHMDSベーク処理装置です。手作業でウェーハをセットした後、自動でHMDSベーク処理を行います。
HMDSは、ベークプレートの熱エネルギーによってシリコンウェーハ等の基板表面の水酸基と反応し疎水性になり、現像時のレジスト剥がれを抑えることができます。