レジスト評価システム
レジスト現像アナライザ RDAシリーズ
このシステムを用いることにより、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行なえます。
また、リソグラフィ・シミュレータに必要なレジスト・モデリング・パラメータを正確に決定することができます。
【製品一覧】 ｜ RDA-760 ｜ RDA-760Spin ｜ RDA-790 ｜ RDA-800 ｜ RDA-800Twin ｜ RDA-Qz3
レジン溶解速度測定 ディップタイプ
RDA-760
概要
樹脂の品質管理に最適な装置です。
特長
モニター数： 1 チャンネル、または、3 チャンネル
モニター波長： 950 nm
適用レジスト膜厚： 500 nm ～ 10 μm
その他： 現像液温調機能、ウェハ自動インサート、
現像液自動供給・排水機能搭載
オプション： 有機溶剤対応
RDA-760カタログ
レジン溶解速度測定 スピンタイプ
RDA-760Spin
概要
樹脂の品質管理に最適な装置です。
特長
モニター数： 1 チャンネル
モニター波長： 950 nm
適用レジスト膜厚： 500 nm ～ 10 μm
その他： 現像液温調機能、スピン現像・パドル現像に対応、
現像液自動ディスペンス機能・自動リンス搭載
レジスト現像速度測定 標準仕様
RDA-790
概要
γ値、コントラストカーブ、表面難溶化パラメータ、現像パラメータの算出が可能です。
特長
モニター数： 18 チャンネル
モニター波長： 950 nm
適用レジスト膜厚： 500 nm ～ 10 μm
その他： 現像液温調機能、ウェハ自動インサート、
現像液自動供給・排水機能搭載
オプション： モニター波長 470 nm
（適用レジスト膜厚100 nm ～ 1 μm）
レジスト現像速度測定 高Rmax対応
RDA-800
概要
γ値、コントラストカーブ、表面難溶化パラメータ、現像パラメータの算出が可能です。
ウェハとレンズの現像液同期挿入機構により、ArFレジストの様な高Rmax（ 5,000 nm/s ）レジストにも対応可能です。
特長
モニター数： 18 チャンネル
モニター波長： 470 nm および 950 nm（デュアル対応）
適用レジスト膜厚： 80 nm ～ 10 μm
その他： 現像液温調機能、レンズ・ウェハ同期型自動インサート、
現像液自動供給・排水機能搭載
オプション： 有機溶剤対応
レジスト現像速度測定 有機/アルカリ現像対応モデル
RDA-800Twin
概要
γ値、コントラストカーブ、表面難溶化パラメータ、現像パラメータの算出が可能です。
ウェハとレンズの現像液同期挿入機構により、ArFレジストの様な高Rmaxレジストにも対応可能です。
また、現像槽を2基搭載しており、アルカリと有機溶剤にそれぞれ対応できます。
特長
モニター数： 18 チャンネル
モニター波長： 470 nm および 950 nm（デュアル対応）
適用レジスト膜厚： 80 nm ～ 10 μm
その他： 現像液温調機能、レンズ・ウェハ同期型自動インサート、
現像液自動供給・排水機能搭載
オプション： モニター波長 265 nm
（適用レジスト膜厚 40 nm ～ 200 nm）
QCM対応レジスト現像速度測定
RDA-Qz3
概要
現像中のレジスト膜の膨潤挙動（膨潤膜厚・膨潤粘度）の解析も可能です。
特長
モニター数： 1 チャンネル
ＱＣＭ基板： 5 MHｚ
適用レジスト膜厚： 10 nm ～ 3 μm
その他： 現像液温調機能、現像液自動供給・排水機能搭載
アルカリ・有機溶剤共に対応可
