【製品一覧】 | PAGA-100 | ProxSim II
脱保護反応解析装置
露光機能: 246, 365, 405, 436 nm、および ブロード光
(フィルタによる選択)
照度: 1 mW/cm²
露光エリア: 10 mmΦ
ベーク機能: 室温 ~ 150 ℃
適用レジスト膜厚:200 nm ~ 80 μm
オプション: 超薄膜対応ユニット
(レジスト厚さ 50 nm ~ 200 nm)
MEMS用露光機対応プロキシミティ・リソシミュレータ
入力パラメータ
露光波長(ブロードバンド対応)
パターン(L/Sパターン、孤立ラインパターン、孤立スペースパターン)
コリメーション・アングル量
プロキシミティ・ギャップ量
露光量
現像速度データファイル
出力
レジスト現像後のパターンプロファイル、仕上がり寸法、パターン側壁角度