レジスト評価システム
レジスト評価ツール
フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。
例えば、レジストの脱保護反応を解析する装置、環境試験装置などをラインアップしています。
さらにお客様のニーズに合わせて、これからも新たな評価装置を提案していきます。
例えば、レジストの脱保護反応を解析する装置、環境試験装置などをラインアップしています。
さらにお客様のニーズに合わせて、これからも新たな評価装置を提案していきます。
脱保護反応解析装置
PAGA-100
概要
FT-IRスペクトロメータに露光機能、ベーク機能を搭載し、露光中のPAGの分解や、PEB中の保護基の脱離の様子を観察します。
リソグラフィ・シミュレータで必要な脱保護反応パラメータの算出が可能です。
リソグラフィ・シミュレータで必要な脱保護反応パラメータの算出が可能です。
特長
露光機能： 246, 365, 405, 436 nm、および ブロード光
（フィルタによる選択）
照度： 1 mW/cm²
露光エリア： 10 mmΦ
ベーク機能： 室温 ～ 150 ℃
適用レジスト膜厚：200 nm ～ 80 μm
オプション： 超薄膜対応ユニット
（レジスト厚さ 50 nm ～ 200 nm）
PAGAシリーズ カタログ
ArF液浸レジスト リーチングサンプル採取システム
WEXA-2
概要
液浸露光の際、レジストが純水と接すると感光材が溶解するリーチング現象が発生します。
リーチング分析用のサンプルを効率的に採取できます。
リーチング分析用のサンプルを効率的に採取できます。
特長
ウェハサイズ：8インチ
サンプル取得数：5サンプル/1ウェハ
ソフトウェア：リソテックジャパン製計算ソフトウェア付属
分析は別途LCMSで行います。
クマリンメソッドDill Cパラメーター測定用 透過率測定装置
CPA-200
概要
クマリンメソッドによる化学増幅型レジストのDill Cパラメーター取得を容易に行えます。
露光はVUVES-4700iを使用すると便利です。
露光はVUVES-4700iを使用すると便利です。
特長
光源・分光器・移動ステージを搭載
ウェハサイズ：6インチ
モニター波長：530nm
モニター数：25ポイント
ソフトウェア：リソテックジャパン製計算ソフトウェア付属
アウトガス捕集システム
OGCS-550
概要
露光中にレジストから発生するアウトガスを効率的に捕集することができます。
UVES-2000およびVUVES-4700iのオプションとなります。
UVES-2000およびVUVES-4700iのオプションとなります。
特長
ウェハサイズ：6インチ
捕集可能物質：VOC、イオン
分析は別途ガスクロマトグラフィ（VOC分析）やイオンクロマトグラフィ（イオン分析）で行います。
深紫外線透過率測定装置
DUVTA-180
概要
ArF(193nm)やKrF(248nm)を含む深紫外線領域の透過率を測定できる装置です。
特長
測定レンジ：180nm～300nm (DUV波長域)
サンプル：石英またはMgF2基板に塗布
MEMS用露光機対応プロキシミティ・リソシミュレータ
ProxSim II
概要
光強度計算にKirchhoff回折理論を用いて回折の計算を行ない、実測の現像速度と組み合わせて現像後のレジスト形状を計算する、MEMS用露光機対応プロキシミティ・リソシミュレータです。
特長
入力パラメータ
露光波長（ブロードバンド対応）
パターン（L/Sパターン、孤立ラインパターン、孤立スペースパターン）
コリメーション・アングル量
プロキシミティ・ギャップ量
露光量
現像速度データファイル
出力
レジスト現像後のパターンプロファイル、仕上がり寸法、パターン側壁角度
