自動レジスト塗布/現像/ベーク装置
LITHOTRACシリーズ

• LITHOTRAC Dual-1000
• LITHOTRAC CB-50
• LITHOTRAC DB-50

マニュアルレジスト塗布/現像装置
Litho Spin Cupシリーズ

• Litho Spin Cup 800C
• Litho Spin Cup 800D
• Litho Spin Cup 1200C
• Litho Spin Cup 1200D
• Litho Spin Cup 200C
• Litho Spin Cup 200D
• Litho Spin Cup Qz1

マニュアルベーク/クーリング装置
LWBシリーズ

• LWB-03/LWB-03H
• LWB-03P

マニュアルHMDSベーク装置
APPSシリーズ

• APPS-30
• APPS-40

レジスト現像アナライザ
RDAシリーズ

• RDA-760
• RDA-760Spin
• RDA-790
• RDA-800
• RDA-800Twin
• RDA-Qz3

フォトプロセス解析露光装置

• UVES-2000
• UVES-2500
• ArFES-3000
• EBES-6000
• EUVES-7000
• EUVES-9000
• EUVOM-9000
• LUVC-5000

レジスト評価ツール

• PAGA-100
• ProxSim II

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Benchmark Technologies社製　半導体露光装置用マスク

• Phase Shift Focus Monitor Reticle

ナノインプリント装置 及び関連装置

• LTNIP-500
• LTNIP-5000
• LTNIP-7000
• WEX-200
• WMA-600

Computational Metrology

• MetroLER

Virtual Lithography Simulator

• PROLITH 2019b
• ProDATA

Foothill膜厚測定装置

• KV-300
• KF-10
• L-2

分光エリプソメータ
UNECS

• UNECS-2000/UNECS-3000

シリコンウェーハ厚さ測定装置
Si-71

• Foothill Si-71

EUV光源
Energetiq Technology社製　EQ-10M EUV Source

• EQ-10M、EQ-10HP

受託測定・受託研究

• 受託測定
• 受託研究