リソテックジャパン株式会社

文字サイズ :小<中<大

お問い合わせ

Japanese English

  • 企業情報
  • 製品情報
  • 技術情報
  • ニュース
  • 採用情報

目的で製品検索

  • レジストの塗布、現像、ベーク
  • ・自動 | 塗布 / 現像
  • ・マニュアル | 塗布 / 現像
  • ・マニュアル | ベーク
  • ・枚葉式/バッチ式 | HMDS処理
    •
  • レジストの特性評価、解析
  • ・レジスト現像解析 / 評価
  • ・フォトプロセス露光解析
  • ・レジスト評価ツール
  • ・測定/評価委託
    •
  • レジスト等倍露光 マスクアライナ
  • 露光装置評価マスク
  • ナノインプリント評価
  • リソグラフィシミュレーション
  • シリコンウェーハ上の膜厚測定
  • ・光干渉式 膜厚測定装置
  • ・分光エリプソメータ
  • 評価用EUV露光光源
  • LDLSTM白色光源

HOME　>　製品情報

コータ・デベロッパ

自動レジスト塗布/現像/ベーク装置
LITHOTRACシリーズ

  • LITHOTRAC Dual-1000
  • LITHOTRAC CB-50
  • LITHOTRAC DB-50

マニュアルレジスト塗布/現像装置
Litho Spin Cupシリーズ

  • Litho Spin Cup 800C
  • Litho Spin Cup 800D
  • Litho Spin Cup 1200C
  • Litho Spin Cup 1200D
  • Litho Spin Cup 200C
  • Litho Spin Cup 200D

マニュアルベーク/クーリング装置
LWBシリーズ

  • LWB-03/LWB-03H
  • LWB-03P

マニュアルHMDSベーク装置
APPSシリーズ

  • APPS-30

レジスト評価システム

レジスト現像アナライザ
RDAシリーズ

  • RDA-760
  • RDA-760Spin
  • RDA-790
  • RDA-800
  • RDA-800Twin
  • RDA-Qz3

フォトプロセス解析露光装置

  • VUVES-4700i
  • UVES-2000
  • UVES-2500
  • ArFES-3000
  • EBES-6000
  • EUVES-7000
  • EUVES-9000
  • EUVOM-9000
  • LUVC-5000

レジスト評価ツール

  • PAGA-100
  • WEXA-2
  • CPA-200
  • OGCS-550
  • DUVTA-180
  • ProxSim II

マスクアライナ

現在取り扱いがありません

    フォトマスク

    Benchmark Technologies社製　半導体露光装置用マスク

    • Phase Shift Focus Monitor Reticle

    ナノインプリント

    ナノインプリント装置 及び関連装置

    • LTNIP-500

    シミュレータ

    Computational Metrology

    • MetroLER

    Virtual Lithography Simulator

    • PROLITH 2019b
    • ProDATA

    膜厚測定装置

    Foothill膜厚測定装置

    • KV-300
    • KF-10
    • L-2

    分光エリプソメータ
    UNECS

    • UNECS-2000/UNECS-3000

    シリコンウェーハ厚さ測定装置
    Si-71

    • Foothill Si-71

    EUV光源

    EUV光源
    Energetiq Technology社製　EQ-10M EUV Source

    • EQ-10M、EQ-10HP

    受託測定・受託研究

    受託測定・受託研究

    • 受託測定
    • 受託研究

    LDLSTM白色光源

    お問い合わせフォーム

    サイトマップ 　｜　リソグラフィプロセス　｜

    リソテックジャパン株式会社 〒332-0034 埼玉県川口市並木2-6-6
    Copyright(c) Litho Tech Japan Corporation, All Rights Reserved.