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コータ・デベロッパ

自動レジスト塗布/現像/ベーク装置
LITHOTRACシリーズ

  • LITHOTRAC Dual-1000
  • LITHOTRAC CB-50
  • LITHOTRAC DB-50

マニュアルレジスト塗布/現像装置
Litho Spin Cupシリーズ

  • Litho Spin Cup 800C
  • Litho Spin Cup 800D
  • Litho Spin Cup 1200C
  • Litho Spin Cup 1200D
  • Litho Spin Cup 200C
  • Litho Spin Cup 200D

マニュアルベーク/クーリング装置
LWBシリーズ

  • LWB-03/LWB-03H
  • LWB-03P

マニュアルHMDSベーク装置
APPSシリーズ

  • APPS-30

レジスト評価システム

レジスト現像アナライザ
RDAシリーズ

  • RDA-760
  • RDA-760Spin
  • RDA-790
  • RDA-800
  • RDA-800Twin
  • RDA-Qz3

フォトプロセス解析露光装置

  • UVES-2000
  • UVES-2500
  • ArFES-3000
  • EBES-6000
  • EUVES-7000
  • EUVES-9000
  • EUVOM-9000
  • LUVC-5000

レジスト評価ツール

  • PAGA-100
  • ProxSim II

マスクアライナ

現在取り扱いがありません

    フォトマスク

    Benchmark Technologies社製　半導体露光装置用マスク

    • Phase Shift Focus Monitor Reticle

    ナノインプリント

    ナノインプリント装置 及び関連装置

    • LTNIP-500

    シミュレータ

    Computational Metrology

    • MetroLER

    Virtual Lithography Simulator

    • PROLITH 2019b
    • ProDATA

    膜厚測定装置

    Foothill膜厚測定装置

    • KV-300
    • KF-10
    • L-2

    分光エリプソメータ
    UNECS

    • UNECS-2000/UNECS-3000

    シリコンウェーハ厚さ測定装置
    Si-71

    • Foothill Si-71

    EUV光源

    EUV光源
    Energetiq Technology社製　EQ-10M EUV Source

    • EQ-10M、EQ-10HP

    受託測定・受託研究

    受託測定・受託研究

    • 受託測定
    • 受託研究

    LDLSTM白色光源

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