レジストの塗布、現像、ベーク

自動　塗布 / 現像 / ベーク

マニュアル / セミオート　塗布 / 現像

マニュアル　ベーク

マニュアル　HMDS処理

　レジストの特性評価

レジスト現像解析 / 評価

フォトプロセス露光解析

レジスト評価ツール

測定 / 評価委託

　露光装置評価マスク

ステッパ・スキャナモニタ

　ナノインプリント評価

光/熱ナノインプリント

　リソグラフィシミュレーション

高度なリソグラフィ最適化　KLA-Tencor社製

　シリコンウェーハ上の膜厚測定

光干渉式 膜厚測定装置　米国Foothill社製

分光エリプソメータ　ULVAC社製

　極薄ウェーハの厚さ測定

光学式基板厚さ測定装置　米国Foothill社製

　評価用EUV露光光源

露光用EUV光源　Energetiq Technology社製

　高輝度・広帯域波長白色光源

LDLS^TM白色光源　Energetiq Technology社