フォトマスク

Benchmark Technologies社製 半導体露光装置用マスク 

Benchmark Technologies社は、半導体露光装置のリソグラフィに必要な各種テスト・レティクルを提供しています。また、オリジナル・マスク・デザイン及び製作も行なっています。多彩なBenchmark製品の1つとして、Phase Shift Focus Monitor Reticleは日本国内はもとより世界各国で愛用されているヒット商品です。

位相シフトフォーカスモニタレチクル

Phase Shift Focus Monitor Reticle

特長

これまでのフォーカス決定法では、フォーカスを振って多数の露光を行なうことが必要でした。露光と現像処理を多数行ない、得られたデータ(最狭残留ピンバーまたは潜像コントラスト)とフォーカス・オフセットの関係をプロットします。この方法は時間がかかるうえ、結果はオート・フォーカス・オフセット機能の精度に依存します。これに代わる方法として、レジストを使わずに光学像を測定する方法が使われていますが、この方法ではウエーハの平坦度などの重要な問題が考慮されません。
Benchmark のPhase Shift Focus Monitorには、IBMが開発した特許出願中の最先端のPhase Shift Mask (PSM) 技術が利用されています。
フォーカスモニターのパターンには、以下に示す優れた特長があり、フォーカスとレンズ系の最適条件を迅速かつ高信頼性で決定できます。
 

(1) 露光量に依存せず、かつ定量的なフォーカスデータを

   提供します。

 

(2)レンズに対する熱の影響を迅速に定量的に評価します。

 

(3)フィールド・ティルト、ウエーハの平坦性、オートフォーカス

   などのシステム特性についてのデータを収集します。

 

(4)実際のプロセス条件下でのデータを収集します。

 

(5) 時間とコストを大幅に節約。ウエーハを1枚露光するだけで、

   フォーカス誤差を定量的分析の容易なパターンに変換できます。

 

(6)統計的工程管理(SPC)データを自動収集。これにより作業者の

   主観を排除します。既存のほとんどすべての露光装置で

   使用可能です。