これまでのフォーカス決定法では、フォーカスを振って多数の露光を行なうことが必要でした。露光と現像処理を多数行ない、得られたデータ（最狭残留ピンバーまたは潜像コントラスト）とフォーカス・オフセットの関係をプロットします。この方法は時間がかかるうえ、結果はオート・フォーカス・オフセット機能の精度に依存します。これに代わる方法として、レジストを使わずに光学像を測定する方法が使われていますが、この方法ではウエーハの平坦度などの重要な問題が考慮されません。
Benchmark のPhase Shift Focus Monitorには、IBMが開発した特許出願中の最先端のPhase Shift Mask （PSM） 技術が利用されています。
フォーカスモニターのパターンには、以下に示す優れた特長があり、フォーカスとレンズ系の最適条件を迅速かつ高信頼性で決定できます。
 

（1） 露光量に依存せず、かつ定量的なフォーカスデータを

　　 提供します。

 

（2）レンズに対する熱の影響を迅速に定量的に評価します。

 

（3）フィールド・ティルト、ウエーハの平坦性、オートフォーカス

　　 などのシステム特性についてのデータを収集します。

 

（4）実際のプロセス条件下でのデータを収集します。

 

（5） 時間とコストを大幅に節約。ウエーハを１枚露光するだけで、

　　 フォーカス誤差を定量的分析の容易なパターンに変換できます。

 

（6）統計的工程管理（SPC）データを自動収集。これにより作業者の

　　 主観を排除します。既存のほとんどすべての露光装置で

　 　使用可能です。