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リソグラフィ・シミュレータとは、露光装置の振る舞いとレジスト(感光性を持つ有機材料)の振る舞いを計算するツールです。実際のプロセスにおけるパラメータを入力することにより、レジストに像が形成される過程をコンピュータ上に再現し、最適なプロセス条件を効率的に見つけることができます。
シミュレータには、実際のリソグラフィ・プロセスと同様さまざまな設定を行なうことができます。以下の図で、現像後のレジスト形状をシミュレーションするまでの流れを説明します。
1. 光学系 |
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入力 |
【照明】 ・照明形状 ・コヒーレンス・ファクタ 【マスク(レティクル)】 ・マスクパターン ・マスクの要素属性 |
【結像光学系】 ・開口数・フォーカス ・収差・フレア ・その他 |
光学計算 |
【空中像】 回折理論やMaxwellの方程式に基づいて計算された空中像。 |
2. レジスト |
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入力 |
・膜厚 ・屈折率 ・DillのABCパラメータ |
・PEB温度 ・酸の拡散長 ・その他 |
潜像計算 |
【露光後の潜像】 露光でレジスト膜内に生じる化学変化が、可視化されます。基板からの反射により定在波が発生すれば、それも考慮されます。 【PEB後の潜像】 PEBによる感光剤分布の変化が可視化されます。 |
3. 現像 |
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入力 |
・現像時間 ・現像速度パラメータ ・その他 |
現像計算 |